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潤錦介紹:硅膠和電鍍產(chǎn)品的最新表面處理工藝

新聞來源:本站發(fā)布日期:2017-06-19發(fā)布人:admin

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現(xiàn)在消費者對產(chǎn)品的要求越來越高,產(chǎn)品不僅要有顏值(外觀好看),也要有內(nèi)涵(功能性),還有環(huán)保!

企業(yè)若能在產(chǎn)品增添以上三項元素,將可大大擴展市場份額!

而在這三項元素中,顏值是吸引消費者最直觀的因素。顏值跟產(chǎn)品的表面處理工藝息息相關,近日香港生產(chǎn)力促進局推出為硅膠和電鍍產(chǎn)品研發(fā)新的表面處理工藝,可大幅改善產(chǎn)品功能!

以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性,將負極硅膠表面改為正極

硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝

硅膠是一種耐熱的橡膠,可抵受高溫,相比其他物料,硅膠具備生物相容特性,制成的產(chǎn)品相當耐用,適用于食品、醫(yī)療及工業(yè)等行業(yè)。但硅膠表面容易沾塵,生產(chǎn)商一般以化學噴涂方法,使硅膠產(chǎn)品表面防塵和更平滑,但這種工藝不但成本高,更影響生態(tài)環(huán)境,危害人體健康。

理論上,硅膠表面存有氧氣原子,帶負極和靜電,塵粒則帶有正極,因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引,使表面沾塵及難于清理,影響產(chǎn)品外觀和功效。

針對硅膠表面容易沾塵的問題,生產(chǎn)力局研發(fā)團隊致力研究解決方案,結(jié)果發(fā)現(xiàn),利用等離子表面改性技術可改善有關表現(xiàn),最終成功以等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)技術,達致優(yōu)化產(chǎn)品表面性質(zhì)的效果。

生產(chǎn)力促進局智能制造及材料科技部高級顧問盧偉賢博士指出,受靜電影響,一般硅膠容易沾塵,廠商若以傳統(tǒng)化學涂層方法,防塵及潤滑涂層功效只可維持數(shù)個月。

嶄新的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性,將負極硅膠表面改為正極,過程中使用無害的有機化學品,不會排出污染廢料,因此是清潔生產(chǎn)工藝。其較低靜電量特質(zhì),防塵效用高,適用于高檔產(chǎn)品,如眼鏡框,手表表帶等,亦可用于醫(yī)療設備及運動產(chǎn)品,令這些產(chǎn)品有更佳表現(xiàn)。

等離子體表面處理技術適用于纖維、聚合物和塑膠等物料,亦可應用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部份,改變材料表面的物理特征。

一旦加入少量的化學氣體,把材料表面進行化學性能微調(diào),便可改善材料表面功能,提供親水或疏水性、易潔、防污或調(diào)整靜電物料表面等增值功能。此技術更于2014年獲頒香港工商業(yè)獎優(yōu)異證書。

硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝,可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題,延長產(chǎn)品壽命,是一種綠色表面處理工藝。它可應用于所有硅膠及相關產(chǎn)品。

厚離子鍍層低成本制作方案

高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層過程上,電源扮演重要的角色,采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式,可于少于2微秒的短時間,發(fā)出高達1500V輸出電壓的強大能量,猶如閃電現(xiàn)象。

由于過程中釋放大量的離子,消除鍍膜的內(nèi)應力,因此可制成厚離子鍍層,無損產(chǎn)品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate),即改善涂層在產(chǎn)品表面的附著力。

高能量脈沖式等離子磁控濺射技術,能超越傳統(tǒng)的磁控濺射方法,制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度,不但加強鍍層與底材之間的接合力,亦可減低表面粗糙度,在功能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數(shù)。

對裝飾性強的產(chǎn)品來說,可保持外觀及更耐用,因此以高能量脈沖式制作鍍層,能有效利用等離子體,從而控制涂層的結(jié)構,其最大特色是可沉積在光滑致密的微細結(jié)構,提升耐腐蝕性及表面光潔度;又或是可沉積在復雜的幾何工件之上,達致更均勻的涂層。

企業(yè)只需在現(xiàn)有的真空離子電鍍設備上增設HPPMS脈沖機,投資成本低,極具成本效益。

盧偉賢博士表示:“此技術可說是真空離子電鍍的延伸技術,有助廠商開拓更高技術水平的市場。可協(xié)助金屬加工業(yè),如:鐘表、電子產(chǎn)品、刀具及模具業(yè)等擴展市場,提供更高質(zhì)量及高效能的產(chǎn)品,長遠提升競爭力。”

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